アメリカ合衆国
エマニュエル次期駐日米国大使による岸田総理大臣表敬
令和4年2月4日
記念撮影する岸田総理（写真提供：内閣広報室）
表敬を受ける岸田総理（写真提供：内閣広報室）
表敬を受ける岸田総理（写真提供：内閣広報室）
2月4日、午前11時25分から約35分間、岸田文雄内閣総理大臣は、ラーム・エマニュエル次期駐日米国大使（Mr. Rahm Emanuel, Ambassador-Designate of the United States）の表敬を受けたところ、概要は以下のとおりです。
- 岸田総理大臣からバイデン大統領の信頼が非常に篤いエマニュエル大使を日本に迎えたことは、日米同盟の強固な絆を象徴するものであり、日米同盟の一層の強化に向けて様々な分野での活躍を期待する旨述べました。これに対しエマニュエル大使から、感謝の意が述べられるとともに、我々は議論すべきことが多くある、岸田総理大臣の政策には「人への投資」が含まれているが、バイデン政権も「ビルド・バック・ベター」に取り組んでいる、全ての人に機会の窓が開かれる必要がある、岸田総理大臣が素晴らしい政策に取り組まれていることに敬意を表する旨述べました。
- 両者は、日米関係や中国、拉致問題を含む北朝鮮等の地域情勢、「核兵器のない世界」に向けた取組等について意見交換を行い、引き続き日米で緊密に連携していくことで一致しました。